高纯氧气

高纯氧气纯度：99.999%。常用于半导体制造用化学气相沉淀、集成电路制造用等离子蚀刻、氧化、扩散、标准气、校正气，零点气、在线仪表用载气、标准气、光导纤维的制备用气。